在双面研磨机上有两种不同的研磨方式:
一种:离散研磨,
离散型研磨原理
第二种:固结研磨
固结研磨原理图
这两种不同的研磨方式是市场上运用广的,固结研磨多用于单平面研磨,而离散研磨多用于双平面研磨中。
由于原理不同,两种方式所呈现出来的优劣势各不相同,对工件表面精度的影响也存在差异。
离散型研磨,上下两个研磨盘---行相互研磨,然后对工件进行研磨,三者分别有不同的研磨轨迹,工件研磨终是三种运动
轨迹的结合。1运动轨迹比较复杂,不会发生重合,所以随着时间的增加,工件的两个表平面平行度逐步提升,终能达到非常高的平行度。。
相对而言,在固结研磨中,研磨机上的磨盘和磨片表面虽然能修整到较高的平行度,但是由于工件是粘贴在磨盘上的,粘贴剂有一定的厚度和误差,无锡抛光技术,
这将一定程度影响工件的平行度。而且,固结研磨的研磨轨迹是磨盘和工件两种运动轨迹的结合,工件外侧的线速度大于内侧线速度,外侧研磨量比内侧研磨量要大,
随着时间的增加,很容易导致工件内凸外陷,所以工件的平行度误差相对也较大。
如果客户的工件对平行度要求比较高的情况下,建议采用双面研磨机,无锡抛光,对工件采用离散型研磨方式研磨。如客户对平行度无要求,则可选择
固结的研磨方式进行研磨。
模具镜面抛光有,初省、粗抛、半精抛、精抛。这几个步骤,步骤如下
粗抛:经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35 000—40 000 rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。常用的方法有利用直径φ3mm、wa # 400的轮子去除白色电火花层。然后是手工油石研磨,条状油石加---作为润滑剂或冷却剂。一般的使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。 油石抛光方法,这个作业是重要的高难度作业,无锡抛光在哪里,根据加工品的不同规格,分别约70度的角位均衡的进行交叉研磨。理1想的往返范围约为40毫米~70毫米。油石作业也会根据加工品的材质而变化。许多模具制造商为了节约时间而选择从#400开始。
半精抛:半精抛主要使用砂纸和---。油石作业结束后是砂纸作业,砂纸作业时,要注意模仁的圆边、圆角和桔皮的产生。所以油石流程尽量做到细加工。 砂纸抛光的重点。砂纸配合较硬的木棒像油石作业一样约70度角交叉地进行研磨,一面砂纸研磨次数约10次~15次。如果研磨时间过长,无锡抛光,砂纸的研磨力会减低,这样就会导致加工面出现不均匀现象(这也是产生橘皮的原因之一)。砂纸作业时一般都采用竹片进行研磨,实际使用材质弹力小的木棒或硬度低的铝棒约45度角进行研磨是为理1想的。研磨面不能使用橡胶或者弹性高的材料,不能用45度角研磨的形状可以用锐角。 砂纸的号数依次为:#220 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。实际上#1500砂纸只用适于淬硬的 模具钢(52hrc以上),而不适用于预硬钢,因为这样可能会导致预硬钢件表面烧1伤。精抛:精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨的话,则通常的研磨顺序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光,顺序为1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。精度要求在1μm以上(包括1μm)的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。若进行精密的抛光则必需一个绝1对洁净的空间。灰尘、烟雾,头皮屑和口水沫都有可能报废数个小时工作后得到的高精密抛光表面。
精抛:精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨的话,则通常的研磨顺序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光,顺序为1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。精度要求在1μm以上(包括1μm)的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。若进行精密的抛光则必需一个绝1对洁净的空间。灰尘、烟雾,头皮屑和口水沫都有可能报废数个小时工作后得到的高精密抛光表面。
金属离不开我们的生活,金属经过抛光加工后更会变得焕然一新,今天弘禾就跟大家介绍一下我们身边的经过抛光加工的东西。此前,有---向大家简单介绍一下什么是抛光加工。
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。对工件进行擦光的加工方法。工作时,一般用附有磨料的布、皮革或木材等软质材料的轮子(或者用砂布、金属丝刷)高速旋转以擦拭工件表面,提高其表面光洁度。此外还有其他方法如液体抛光、电解抛光、化学抛光、物理抛光等。
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